显示器

近年来，显示器发展迅猛。许多新型的显示器加入了触摸感应层，为我们带来清晰明亮、视角宽阔、色彩鲜活的高质量视觉享受。

显示器主要分为两类：薄膜晶体管液晶显示器（TFT-LCD）和低功耗高亮度的有机发光二极管（OLED）。LCD 和 OLED 显示屏结构包含极硬材料（钼和氮化钛）和极软材料（银合金）。由于玻璃（塑料）基板、有机层和整体触摸屏幕的厚度较大，对这些结构进行扫描电镜分析比较复杂。

TESCAN 提供一系列非常适合显示器行业进行微观观测和分析的仪器和设备。显示器是一种非常精细的结构，极易受到电子束辐照而损伤。
TESCAN MAIA3 超高分辨场发射扫描电镜具有优异的低电压分辨率，可以非常理想的实现无损伤和无荷电效应成像，无需镀膜保护，即可精细地表征出显示屏中的对电子束敏感的细小结构。
除了光学方法，还可用 TESCAN 双束电镜系统来定位显示器屏幕中的缺陷位置，并以最小的损伤完成截面抛光，将缺陷暴露出来。

TESCAN GAIA3 双束电镜非常适合在几十微米的 TFT 小区域进行截面加工。但用 FIB 切割贯穿整个红-绿-蓝（ RGB ）像素的 TFT 阵列却是一项非常艰巨的任务，需要在三维方向上刻蚀掉数百微米，而用传统的 Ga 离子源 FIB 系统完成这项工作一般需要几十个小时甚至几周的时间。
TESCAN Xe 等离子源双束电镜系统XEIA3 ，是在 TFT 面板上进行大尺度截面切割和缺陷表征的最佳解决方案。利用 XEIA3，我们可以观察到由于刻蚀残余、多层结构中的微孔隙及电极上易碎的铝支晶突起等结构导致的薄膜变形，或者是机械应力导致的局部 TFT 多层结构损坏。利用 XEIA3 系统完成这些截面加工仅需要至多几个小时，而且它还能完成精细结构的超高分辨观察。

用 Ga 离子源 FIB 在 TFT 阵列上制备的金属连接层与数据线的截面图

Thin-film transistor display lamella preparation using Xe Plasma FIB

In this application note we describe and present the preparation process of a TEM specimen from a TFT display array on glass substrate. The lamella was prepared using the TESCAN UHR-SEM/plasma FIB XEIA3 microscope.

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Extra-large-area cross-section in an OLED display using the new TESCAN S9000X

Organic Light Emitting Diodes (OLEDs) is a flat light emitting technology, consisting of a series of organic thin films placed between two conductors. When an electrical current is applied, a bright light is emitted. OLEDs are emissive display that do not require a backlight, and as a result, are thinner and more efficient than LCD displays (which do require a white backlight). Other advantage of OLED displays is that they are flexible. For this reason, OLED technology has recently gained significant presence in today’s display market. OLED displays are nowadays produced in mass for mobile phones, tablets, TVs, and wearables.

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